技术指标：
1. 紫外光波长：365nm，曝光能量密度18-20mW/cm2可调
2. 样品尺寸：6英寸及以下，光刻板尺寸3、4、5、7英寸
3. 分辨率：接触曝光<0.5μm，接近式曝光≤1μm
4. 对准精度:<1μm
1μm线条光刻 多层光刻板精准套刻
广东省半导体产业技术研究院微纳加工平台，拥有半导体器件制备工艺研发所需的整套仪器设备，可提供镀膜、刻蚀、光刻等技术服务，加工尺寸覆盖2-6英寸。
微纳加工平台面向国内外科研机构和企业提供全方位的开放服务，我们将对半导体材料与器件的深入研发给予全方位支持，为广大科研单位和企业提供高品质服务。
